二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 8 / BA 8 #9276692 待售

KARL SUSS/MICROTEC MA 8/BA 8是一种在微电子工业中用来製造半导体晶片光刻蒙版的蒙版对齐器。它是为处理光阻抗剂而设计的，也是为处理不等平面化的基材而设计的。MICROTEC MA8/ BA8提供优于1微米的精确晶片与掩模对准精度,非常适合制造高分辨率微电子器件。KARL SUSS MA8/ BA8是由投影仪单元和对准设备组成的掩码对齐器。投影仪单元是一种cw激光二极管，能够投射尺寸最大为2微米的曝光点，并且可以曝光高度最大为5 µm的基板。对准系统由一个4轴步进电机组成，它可以调整面罩相对于基板和光源的位置。该装置配有两轴手动升降机，便于口罩对准。KARL SUSS/MICROTEC MA8/ BA8是一种高精度掩模对准器，主要用于半导体行业，因为它能够生产用于薄膜晶体管和集成电路的高分辨率光刻掩模。MICROTEC MA 8/BA 8采用胶片对胶片技术，与其他光刻面膜相比，可以获得更准确的结果。这种胶片-胶片技术确保每一层面膜与基板完美对齐,使用户能够生产宽度最小、功能尺寸小至几纳米的面膜。此外，MICROTEC MA8/ BA8利用聚焦激光曝光工具，可以精确控制基板上曝光点和图桉的位置。这允许用户生成无法与其他掩码对齐系统一起生成的高度复杂的模式。KARL SUSS MA8/ BA8是一种功能强大且用途广泛的掩模对齐器，用于半导体和生物技术等多个行业。它能够生产高质量的光刻口罩，用于从电路板设计到医学测试的各种应用。KARL SUSS/MICROTEC MA8/ BA8是一种高效且经济实惠的掩模对齐器,它使用户能够以高精度生成高分辨率图样。