二手 KARL SUSS / MICROTEC MA 8 Gen 2 #293609268 待售

KARL SUSS/MICROTEC MA 8 Gen 2是一种用于制造半导体光掩模的自动掩模对准器。口罩对齐器非常适合较大的口罩尺寸，并提供高分辨率和基板多功能性。这是一个两步过程，使用接触曝光和投影打印精确对齐蚀刻图桉与设计的光掩模。这是通过一系列经过仔细校准的步骤完成的，这些步骤都是完全自动化的。设备配备精密对齐的扫描头组件和先进的软件控制。扫描头通过嵌入式传感器和编入控制单元的算法获取基板细节（如沟槽宽度、曲率、焦点等）。随后，扫描头通过激光和光学系统将光掩模的预期位置转换到基板上。这提供了比传统接触曝光系统高得多的分辨率和准确性。MICROTEC MA 8 Gen 2有5种基板尺寸：4"、5"、6"、8"和12"。它有75 µm至300 µm的投影印刷区，分辨率高达3 mm。该单元提供多种晶片板设计和尺寸，允许用户容纳多种基板类型。KARL SUSS MA 8/GEN 2除了与掩码对齐器相关的功能外还有许多功能。它的设计考虑到健康和安全，其开放式体系结构可以很容易地集成到其他自动化系统中。它还通过自动清洗和校准周期来最大限度地提高可靠性和性能。它易于跟踪的命令和锁定机制有助于在整个机器中高效传输口罩。此外,MA 8/GEN 2与Windows和Linux系统兼容,可轻松集成到现有产品或测试环境中。KARL SUSS MA 8 Gen 2是接触和光掩模生产的理想选择。它的高分辨率、基板可变性和自动化提供了高效、高效、准确的掩模处理。它开放的体系结构和与现有系统的兼容性使得它成为许多半导体器件制造场景的绝佳选择。