二手 KARL SUSS / MICROTEC MA / BA 6 #293826496 待售

KARL SUSS/MICROTEC MA/BA 6是一种全自动晶片步进/掩模对齐器，用于将薄图样的箔（掩模）对齐基板。MICROTEC MA/BA 6常用于微电子工业和研究机构的製造用途。晶片步进/掩模对准器采用"梁"设计，包括两个带有检流计和控制器的独立6轴控制元件。检流计控制基板平面表面的扫描。控制器在所有三个维度上都具有精确的坐标系,位置精度很高。KARL SUSS MA/BA 6能够处理直径达8英寸（200毫米）的晶片。它具有全方位的蒙版尺寸,从6英寸（152毫米）到8英寸（200毫米）不等。MA/BA 6的曝光场最小为5.5 m 5.5 m,最大为8 m 8 m。步进器设计有一个指标设备，允许精确的重复性和准确性。这是通过"四点评分地址"实现的，该地址包括四个在索引系统识别的掩模（或无色标线）边缘均匀隔开的孔。KARL SUSS/MICROTEC MA/BA 6有几个可选功能，如泡沫调节单元，使用户能够为正在安装在机器上的掩模或标线设置特定的张力。晶圆步进器还具有手动操作的负载锁，可用于装载单个或多个基板，并允许它们在曝光/对准过程前冷却。MICROTEC MA/BA 6还包括一个串联视觉工具，它使用多个摄像机捕捉对齐目标的图像进行比较。KARL SUSS MA/BA 6的一些更高级的功能包括：对连续运行的几个任务进行编程的功能；高分辨率R2R掩码板阅读器以及强大的模式匹配算法。对于需要更高精度的任务，MA/BA 6可以配备一个可选的偏转器，允许调节曝光光束一个额外的精细水平。KARL SUSS/MICROTEC MA/BA 6还具有广泛的兼容附件,使用户能够进一步定制资产。总体而言,MICROTEC MA/BA 6是一种先进的自动化晶片步进/掩模对齐器,可帮助优化对齐和曝光过程的准确性和可重复性。它的特性和兼容的配件使用户能够定制模型以满足他们特定的制造需求。