二手 KARL SUSS / MICROTEC MA200 GEN3 #293829722 待售

KARL SUSS/MICROTEC MA200 GEN3是专门为高科技光刻工艺设计的自动化高精度掩模对齐器。此工具用于创建光掩模,以精确绘制薄膜涂层、抗蚀剂和油墨等光材料的图案。MICROTEC MA200 GEN3能够产生小至0.5 μ m、亚微米精度和可重复性的图样。该设备还具有很高的空间分辨率和极低的暴露剂量变化。KARL SUSS MA200 GEN3配备了扫描XY级、显微镜、对准系统、曝光单元以及一系列其他控制和监控功能。运动阶段能够在X、Y、Theta和Do me轴中进行精确、可重复的运动，允许以纳米精度对整个曝光单元进行亚微米定位。曝光单元使用变速扫描机根据整个曝光区域所需的模式密度来改变曝光热量。对准工具包括一种高精度成像资产，能够以高分辨率和准确度自动对准宏观、微观和纳米模式。显微镜允许直接控制和观察曝光和对准过程。对齐措施包括各种选项,例如基于预定义参考引脚的边嵴对齐、点对点对准和对准。内置的基于软件的方法还允许实时优化对齐精度。为控制所有子系统MA200 GEN3配备了数字运动控制器、温度控制模型、曝光控制器和数字图像处理系统。这些子系统监视和控制所有设备组件，并集成不同的控制参数，以确保一致的输出质量。KARL SUSS/MICROTEC MA200 GEN3是市场上最先进的口罩对齐器。它提供了高效、精确的光合材料和复杂的面膜的图样，高达5x5厘米²。MICROTEC MA200 GEN3具有很高的分辨率、准确性和可重复性，是生产电子电路、光电器件、显示器和其他精确制图应用的理想选择。