二手 KARL SUSS / MICROTEC Mask Track Pro #293634693 待售

KARL SUSS/MICROTEC Mask Track Pro是一种最先进的掩模对齐器，用于在光刻应用中制造精细的几何形状。利用精密晶片级进行极其精确的控制,MICROTEC Mask Track Pro提供了高度精确的掩模对准和高分辨率的阶段扫描功能。该对齐器专为需要最佳对齐精度和可靠性的应用而设计。KARL SUSS Mask Track Pro的全自动对准设备基于最先进的白光干涉仪系统。干涉仪将正弦条纹图样投射到光掩模上，从而产生与物体与传感器精确距离直接相关的信号。此信号由先进的CCD相机测量，允许精确的掩码配准。高速传感器和精确的电机使掩模与晶片的对准速度非常快和精确。此外,Mask Track Pro还配备了6轴优化灵敏度功能,可确保更精确、更稳定的对齐方式。此外,KARL SUSS/MICROTEC Mask Track Pro还配备了高分辨率阶段扫描重新定位单元,能够创建分辨率高达2微米的模式。此功能允许对光掩码上的功能进行极其精确的控制。该机器能够以200纳米的步进分辨率定位舞台。此外,MICROTEC Mask Track Pro提供自动晶片加载功能,可实现精确的晶片对齐。KARL SUSS Mask Track Pro是一款功能强大的Mask对齐器,可精确对齐具有高分辨率特征和精细几何形状的光掩模。先进的干涉仪工具可以将光掩模的正确区域精确地设置到晶圆上,高速电机可以快速准确地跟踪。高分辨率阶段扫描重新定位资产保证了准确的特征创建，自动晶片加载模型确保了精确的对齐。凭借其先进的设计和强大的性能,Mask Track Pro是要求苛刻的光刻应用程序的通用且可靠的选择。