二手 KARL SUSS / MICROTEC MJB-21 #9140521 待售

KARL SUSS / MICROTEC MJB-21
ID: 9140521
晶圆大小: 3"
Mask aligner, 3" Double side alignment Split field microscope.
KARL SUSS/MICROTEC MJB-21是一种高精度的掩模对齐器,主要用于光刻处理。它旨在为亚微米半导体器件和部件的精确制造提供一个干净、安全和可靠的环境。MICROTEC MJB-21具有150毫米x 190毫米的加热级,允许4英寸基板运动。它具有超过1 x 1"区域的均匀曝光,在4"晶圆上的最大对准点位置为5微米。此外,KARL SUSS MJB 21还有一个具有图像处理功能的对准监视器,用于实现设备结构的精确对准和键合。KARL SUSS/MICROTEC MJB 21具有两个独立的可编程400瓦汞弧灯,压力控制均匀曝光面积为1×1英寸。这些灯能够独立地改变曝光时间,从10秒到250秒,每cm2的最大输出功率为11 mJ。这样就可以灵活处理各种材料。MICROTEC MJB 21使用准直显微镜为用户提供快速、准确和可重复的对准,并使用相对于掩模的基板手动或自动对准。MJB-21面罩对准器在舞台上包含一个加热元件,可设置在室温最高100摄氏度,湿度可调节,可针对每一种应用进行量身定制。该级还配备了精确定位和真空夹紧设备,可实现精确的基板放置和0.5微米的精细台阶。KARL SUSS MJB-21包括一个远程诊断和维护接口,可简化设置并提高整体可靠性。MJB 21还利用先进的真空系统最大限度地减少空气在对准过程中的移动。这确保了与可重复结果的精确对齐,并减少了设备的污染。KARL SUSS/MICROTEC MJB-21有一个可自动同时处理两个口罩的双提升装置和一个可精确定位两个口罩的定心机。这样,即使布局复杂,也可以对设备进行更高效、更准确的处理。MICROTEC MJB-21是一种高精度的掩模对齐器,旨在为用户提供最先进、最精确的光刻处理。它提供了一个1x1"的均匀暴露区域,最大对准点放置在4"晶圆上5微米。它具有两个独立的可编程400瓦汞弧灯,一个压力控制的均匀曝光面积1×1英寸,一个远程诊断和维护接口,一个先进的真空工具,以及一个可同时处理两个口罩的双重升空资产。所有这些特性使得KARL SUSS MJB 21成为高效、精确光刻处理的理想工具。
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