二手 KARL SUSS / MICROTEC MJB-3 #76306 待售
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ID: 76306
Aligner
Topside
M400 Normalfield Microscope with revolving objective turret and trinocular microscope head
Objectives: LEITZ NPL 5x, 10x, and 20x
Oculars: 10x Eyepieces
Mercury (Hg) lamp: 350 W
Exposure optics: UV400
Optical sensor: CH1: 365nm, CH2: 405nm
Timer: Digital
CIC Power supply: CIC 1000 Constant intensity controller
Standard mask holder
Wafer alignment chuck.
KARL SUSS/MICROTEC MJB-3是一种掩模对齐器,也称为步进器,用于创建半导体器件。它是一种光刻工具,非常适合创建多种组件,如晶体管、二极管、电阻器、内存单元和电容器。MICROTEC MJB3通过在半导体材料的表面上投射光或遮罩的模式来运作。然后,掩模对齐器使用一对精密控制的x和y-可移动级来精确对齐半导体晶片上的图样。这是由计算机控制的步进机制完成的,该机制同步掩模和半导体晶圆的x和y轴运动。此外,KARL SUSS MJB3还有一个光学对准设备,这有助于确保图桉被精确放置。MJB-3采用了最先进的微光刻技术,称为深反应性离子蚀刻(DRIE)。这种技术采用反应性离子束蚀刻和深紫外光刻相结合,以高精度精确蚀刻图样到半导体晶片表面。KARL SUSS MJB3还具有先进的光学对准系统。这样可以确保将掩模精确地放置在半导体晶圆上,甚至降到纳米尺度。此外,此对齐单元还有助于减少蚀刻过程中可能发生的任何失真。此外,KARL SUSS/MICROTEC MJB3还利用了许多安全功能。这些有助于确保工具以安全的方式操作,从而保护操作员和晶片免受潜在的损坏。其他特性包括防污染机器,有助于防止灰尘和颗粒污染设备和半导体晶片。总体而言,KARL SUSS/MICROTEC MJB3是一种先进且高效的掩模对齐器,非常适合生产各种不同的元件,用于半导体器件。它结合了计算机控制的精密运动、光学对准和先进的DRIE显微光刻技术,成为生产高质量半导体元件的宝贵工具。
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