二手 KARL SUSS / MICROTEC MJB-3 #9035395 待售

ID: 9035395
晶圆大小: 3"
Mask aligner, 3" Upgraded touch screen Mask holder, 2"-3" Front alignment Soft contact option Objectives: 2.5x, 5x, 20x, 32x Lamp: 200 W.
KARL SUSS/MICROTEC MJB-3 Mask Aligner是一种紧凑、高精度、全自动、微米级的对准设备,专为利用高分辨率光阻过程生产半导体器件而设计。它能够在4 "x4"的区域上执行3 µm的重整精度和1-2 µm的覆盖。该系统采用先进的激光自动对焦功能,在每次对准周期前检测晶片和透镜的确切位置,确保晶片对准定位的准确性和可重复性。MICROTEC MJB3 Mask Aligner设计用于处理深紫外线、电子束和离子束光刻的最大分辨率要求。KARL SUSS MJB3对准器利用步进电机和光杆驱动的步进重复组件,包括对缩放和镜像的支持。由于配有一个电动晶片索引单元,便于晶片翻转或基板交换,因此该对齐方式有助于加快处理时间并提高吞吐量。MICROTEC MJB 3掩码对准器的控制单元由一个可方便操作和观察机器的集成操作面板和一个IBM兼容的386 PC通过图形用户界面进行数据记录和控制组成。PC和面板连接在一起,并与触摸感应液晶显示器和按钮选择工具连接。资产以独立模式运作,也可与更大的过程控制模型整合。KARL SUSS MJB3 Mask Aligner采用双轴微米级控制和检流计驱动的激光控制,对准精度和准确性。该设备采用垂直和水平真空框架,用于掩蔽、掩模夹紧和基板固定,以及具有可调高度和力夹的模块化基板夹具和掩模夹具组件。在MICROTEC MJB3系统的设计中加入了操作员安全,因为它具有防护屏蔽、钥匙互锁和安全互锁。该装置专为高效能耗而设计,最大额定功率为700瓦。95 cm x 65 cm的机器占地面积是任何半导体制造实验室的理想选择,其众多集成功能使其成为一种流线型、用户友好的工具,可用于精确和可重复的光刻。
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