二手 KARL SUSS / MICROTEC MJB-3 #9211064 待售

KARL SUSS/MICROTEC MJB-3掩模对准器是一种精确可靠的掩模对准设备，用于许多光刻应用，包括光掩模检查和曝光。此对齐器专为高分辨率曝光应用而设计,非常适合在晶片上创建超精细特征。它具有一个可在1微米精度内将光掩模与基板对齐±步进重复主轴，这种定位是通过精确的电机驱动的单轴和多轴运动完成的。它还具有广阔的视野，以容纳更大的基材和晶圆。MICROTEC MJB3具有改进的光学系统,使用户能够使用低分辨率成像模式在远距离、高分辨率和远距离工作范围之间切换。低分辨率成像模式允许用户通过检测光掩模因其透明度和反射率的变化来确认对准和选择最佳曝光剂量。高分辨率成像模式使精确的检查和精确的位置能够在延长的使用寿命内实现可重复和可靠的性能。此外,KARL SUSS MJB3还集成了自动晶圆处理系统。该单元在暴露过程中提供精确的定位和对基板的临时锚固。该机器还使用户能够将曝光剂量设定为每百万像素100个成像点，均匀度± 1%。而且，这种最先进的工具还配备了激光微米，能够对光掩模进行精确的非接触式扫描。总体而言,KARL SUSS MJB3掩模对齐器是一种高效、精确的资产,为光刻操作提供可靠的性能。成像、定位和自动晶圆处理系统的结合允许各种应用程序具有准确性和可重复性。此模型还减少了停机时间,提高了生产率,并以较少的错误广播了较小的功能。