二手 KASPER / EATON / QUINTEL 2001 #9003958 待售

ID: 9003958
晶圆大小: 4"
Mask aligner, 4" Split field optics 350 watt light source Resolution: 1 to 3 microns (process dependent) Available options: 2" and 3" wafer conversion kits.
KASPER/EATON/QUINTEL 2001是一种面罩对齐器-用于制造微电子器件的专用设备。它设计用于在晶圆制造过程中将光刻面膜和其他组件精确定位到基板上。设备的主要特点是精度高。这是通过两个独立的设备,一个EATON掩模对齐器和一个KASPER级实现的。QUINTEL掩模对准器容纳了光掩模,该光掩模放置在激光直接图像(LDI)控制标线上。LDI控制标线从基板上进行高细节测量,确保光掩模的放置尽可能准确。收集到的数据被转移到KASPER/EATON/QUINTEL阶段。该装置使用精密马达在基板上精确移动光掩模。电机采用EATON正交编码器绝对定位(QEAP)技术,保证了光掩模的高度精确定位。这两种装置结合在一起,形成了EATON 2001蒙版对齐器,允许极其精确的蒙版对齐。KASPER 2001面膜对准器被用于多种光刻工艺,包括单层曝光、双层曝光和预制图。它是用于创建微电子设备的一套更广泛的设备的一部分,包括曝光源、轨道系统、晶圆步进器和晶圆步进器装载机。QUINTEL 2001的设计允许更轻松地与其他工具集成,从而减少了制造过程的设置时间和复杂性。除了它的准确性和对准速度,2001面罩对准器内置了一系列的安全特性的设计。它还配备了电源故障保护系统,确保口罩即使断电也能牢牢固定在适当的位置,还设有维护警报系统,确保设备正确维修和定期清洗。KASPER/EATON/QUINTEL 2001口罩对准器是一种功能极其强大且可靠的设备,使其成为微电子工业中必不可少的工具。它已被证明是可靠和高效的,使其成为制造商和运营商的热门选择。
还没有评论