二手 KASPER / EATON / QUINTEL 2001 #9192045 待售

ID: 9192045
Mask aligner.
KASPER/EATON/QUINTEL 2001是一种掩模对准器,是一种精密的半导体製造设备,用于製造集成电路和其他纳米技术装置。这个特定的对齐器由四个主要组件组成,一个晶片级、一个标线、一个掩模和一个光源。晶圆级是放置晶圆和其他项目的表。标线板是一个电子控制的板,在曝光时容纳并精确移动掩模和晶片。遮罩是一块金属板,在预定位置有透明和不透明的窗口,用作要写在晶圆上的地形图桉或图像。原始图像存储在掩码内存中,并在需要时传输到掩码。最后,光源照亮掩模,使其图样在曝光时投射到芯片上。EATON蒙版对齐器设计为提供高精度的蒙版和晶片对齐,以获得最佳分辨率。它能够扫描整个晶片表面,最小特征尺寸小于1 µm,精度在0.5µm水平。此外,它在整个芯片(300 mm2)上提供了5 µm的边到边对准和35nm x-y的对准精度。KASPER掩模对齐器还有其他提高其准确性和性能的功能,例如其精确的端点控制。此功能监视整个扫描过程,并可以在该过程的任何位置停止扫描以进行进一步调查。对齐器还包括不断在后台运行的集成系统诊断程序,有助于快速识别可能出现的任何缺陷或问题。最后,它的一套软件工具有助于提高对齐过程的准确性,包括在1 µm精度范围内进行3 D迭加测量。总体而言,QUINTEL掩模对齐器设计用于将图像和图样精确写入芯片,对于创建高度先进和可靠的半导体和其他纳米技术设备至关重要。它提供了高度精确的对齐、高分辨率的功能以及高级诊断和软件工具。因此,它是现代半导体制造格局的重要组成部分。
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