二手 M & R NANO TECHNOLOGY AG2000‐ 8NDSAV #293598392 待售

ID: 293598392
晶圆大小: 12"
优质的: 2010
Manual mask alignment machine, 12" 2010 vintage.
M&R NANO TECHNOLOGY AG2000-8NDSAV掩模对准器是一种高性能设备,用于将精细电路和光学电路的模式精确传输到半导体基板或晶圆上。此掩模对齐器的设计既方便用户又具有成本效益。它利用先进的算法和软件,让用户能够快速准确地对齐电路模式,同时也监测对齐过程和结果。该AG2000-8NDSAV提供了最佳的精度,并允许阵列尺寸可达12 mm x 12 mm,对准可重复性为0.1微米。这使得它非常适合用于生产用于制造半导体集成电路和组件的基板。此机器使用x-y精细对齐轴来对齐阵列。该AG2000-8NDSAV采用先进的"Ganfure"投影镜头和高清相机系统。这一单元还结合了光刻光学和其他组件,使用户能够精确地对齐图样到基板上。图样对齐后,机器使用能量束将图样传递到基板上以创建图样。通过控制能量束的暴露面积和强度,该工具确保了图样的精确传递。该掩模对齐器还具有复杂的基板加热资产,可确保晶圆温度在整个光刻过程中保持一致。AG2000-8NDSAV的另一大特点是"自动采样扫描"。此功能可确保模式在扫描整个基板时保持一致和均匀。该模型还具有易于使用的数据记录过程,允许用户存储曝光数据并分析结果。此外,该AG2000-8NDSAV还具有强大的真空歧管设计,能够更好地处理废气和提高能源效率。此外,这台机器还包括一种高级编程语言,允许用户轻松编程和自定义各种对齐设置。总之,M&R NANO TECHNOLOGY AG2000-8NDSAV掩模对准器是一种功能强大、经济高效、用户友好的设备,是生产复杂基板和集成电路的绝佳选择。它为用户提供了精确的模式对齐和舞台快门控制,以及自动采样扫描功能。此外,强大的真空歧管设计和数据记录过程使这种掩模对齐器成为集成电路制造商的绝佳选择。
还没有评论