二手 M & R NANO TECHNOLOGY AG359-6N-D-S-S-V #9191076 待售

M&R NANO TECHNOLOGY AG359-6N-D-S-S-V是一种高性能的掩模对齐器，用于生产大量精确度较高的半导体产品。此掩码对齐器专为业界领先的过程灵活性和生产可扩展性而设计。它提供了广泛的对准和曝光功能,可用于各种半导体技术,包括有源层图样、互连结构和设备级金属化。在设计方面，NANO TECHNOLOGY AG359-6N-D-S-S-V配备了保证高精度和吞吐量的3级广域镜头和晶圆对准系统。这些调整系统可以微调任何尺寸产品的每个曝光作业的对齐方式。此外，掩模对齐器具有用于晶圆存储和传输的大分区结构，有助于提供安全高效的生产过程。NANO TECHNOLOGY M&R NANO TECHNOLOGY AG359-6N-D-S-S-V还配备了一个旋转面罩单元，可确保面罩的精确方向对准和曝光。这个单元可以被编程为精确定位，可以用来改变不同类型晶圆的曝光设置。此外,它还具有预先编程的分辨率和准确性程序,可确保每次曝光都正确完成。NANO TECHNOLOGY AG359-6N-D-S-S-V还配备了自动口罩制备系统，提供高效的真空和气体输送到钝化层以沉积抗蚀剂。该系统还可以执行一系列任务,例如光掩码清洗和掩码传输,以提高准确性。NANO TECHNOLOGY M&R NANO TECHNOLOGY AG359-6N-D-S-S-V还配备了高精度气隙控制系统，允许暴露临界层特征。这样可以实现更好的工艺控制,并有助于确保大规模晶圆制造的质量。总体而言，AG359-6N-D-S-S-V是高端半导体产品生产的理想解决方桉。从其设计特点和调整能力到自动口罩准备系统和气隙控制系统，这种口罩对准器确保了高度准确和可重复的曝光结果。因此，它是任何现代半导体加工设施的宝贵资源。