二手 Mark Aligner System #9007724 待售
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ID: 9007724
晶圆大小: 8"
Mask Aligner / Exposure Tool, up to 8"
Substrate Size: Round or square
Mask size: 3"x3" up to 10"x10"
Exposure System
Lamp power: 350W, 500W, 1000W, 2000W, 5000W
Intensity (8" field @ 365nm): 20mw/cm2 (1000W), 40mw/cm2 (2000W)
Uniformity: Better than ±5%
Resolution: Proximity mode 3.0μm, Contact mode <1.0μm
Exposure Modes: proximity, soft, hard, vacuum
Exposure Gap: 1-1500μm
Gap Adjustment resolution: 1μm
Alignment System
Alignment Accuracy: 0.5μm topside, 1.0μm backside
Alignment Gap: up to 1500μm
Alignment Range (X,Y): ±3mm
Alignment Range (Ø): ±3o
Mechanical Resolution: 0.1μm
Alignment Microscopes
Microscope Type: Dual zoom, CCD TV camera
Magnification: Approx. 30X - 210X
Illumination: Solid state LED
Cost of Ownership
Throughput: >100wph
MTBF: >1500 hours
MTTR: <4 hours
Uptime: >95%
Consumables
Vacuum: 25"HG
Nitrogen: 20 PSI
Power: 208V, 60Hz, 20A, 3-phase
UV Lamps.
掩模对齐器Mark Aligner Equipment，通称为System，是一种自动化的半导体製造机，用来定位和对齐光掩模以与基板对齐。它由三个主要组成部分组成：一个光源、一个成像标记对齐器单元和一个对齐阶段。光源通常是UV灯，它照亮光掩模和基板，以便为成像机生成图像。成像标记对齐器工具捕获两个对象的高分辨率图像或视图,然后将其用于对齐过程。对齐阶段是电动机驱动的资产，它使用该图像来精确、精确地对齐对象。它通常使用闭环标记对齐器模型,该模型可主动检测任何未对齐的情况并对其进行校正。掩模对准设备用于制造集成电路（IC）的制造过程中。光掩模是包含集成电路图样的玻璃板，需要精确定位在晶圆上。掩模对齐器Mark Aligner System用于确保光掩模的位置和方向相对于晶圆本身是正确的。掩模对齐器还用于后续的计量和迭加测量，以确保IC的层已被精确对齐和阵列。为了实现精确的对准，Unit具有自动对焦、自动拆卸和自动安装等多种自动化功能。自动对焦使用算法检测每个图像的焦点，然后相应地调整图像，以最大限度地提高对齐精度。自动裂纹被用来维持光掩模和基板的对齐，即使在掩模被移动，以实现对齐。最后,使用autotilt来确保光掩模相对于基板始终保持相同的角度。总体而言,Mark Aligner Machine提供了很高的对齐精度,对于在集成电路生产中执行高质量的制造作业至关重要。
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