二手 MIDAS MDA-400M #293666284 待售
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ID: 293666284
优质的: 2011
Mask aligner
Spin process controller
Substrate size: 2" and 4"
Exposure optics: I, G, H-line
UV Light source: 350 Watt
Intensity controllable power supply
Alignment: Top and back side alignment
Top alignment stage: X, Y: ± 5mm and Z: 5mm
Theta: ± 4°
IR Lamp X-axis moving range: 2" 45~125 mm/ 6" X 55~129 mm
Exposure time: 0~999 sec, min, hour
Beam:
Size: 4"x4"
Power: ≥20 MW/cm²
Beam uniformity: ≤ ± 3%
Exposure mode:
Soft and hard
Vacuum and proximity contact
Utilities requirement:
Nitrogen: 0.4 MPA
OFA: 0.6 MPA
Vacuum: -600mm Hg
No exhaust
Lamp:
Radiant intensity: 4,700 MW/SR
Average luminance: 53,000 cd/cm²
Base temperature: 230° C
Radiant power: 50 W
Power: 5.15 A, 350 W, 68 V
2011 vintage.
MIDAS MDA-400M是一种高效且用户友好的掩模对齐器,可实现光刻工艺和表面特定图桉的曝光。此工具用于半导体制造,用于制造各种电子产品。MIDAS MDA 400 M利用高能光致抗蚀剂和光学图样,快速准确地将图样从作为照相生成设备的标线转移到正在开发的设备上。这种工具可以在各种各样的基材尺寸和厚度中使用，也支持一系列的曝光解决方桉，可以帮助保持最高的精度和可重复性。MDA-400M拥有独特的四掩蔽设备，可以处理更大的光刻作业。该工具设有四个掩模装载室，每个装载室一次最多可容纳五个晶片。这使得晶片可以按交错顺序加载，从而减少了将图样转移到基板上所需的时间。这款蒙版对准器具有CCD视觉对准系统，是一个有助于确保图样曝光精度的相机单元，以及能够准确快速聚焦图像的显微镜和激光源的选择。激光源还具有三维自动聚焦特征，随着基板表面的变化调整聚焦水平。这有助于保持准确的曝光和可重复性。MDA 400 M也有一个先进的配方管理机器，帮助简化制造过程，允许一致的模式和再现。凭借其直观的触摸屏图形和用户友好的操作，这台机器可以在不同的掩模对准器之间交换配方。总而言之，MIDAS MDA-400M是半导体制造和其他精密光刻应用的理想掩模对齐器。它非常快速和准确，其流线型的操作使其成为一种高效且易于使用的工具。
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