二手 MIDAS MDA-400M #9276070 待售

MIDAS MDA-400M
製造商
MIDAS
模型
MDA-400M
ID: 9276070
Mask aligner and exposure system Standard features: Manual control system GaAs Wafer sample size: 2"-3" Mask size: 4" x 4" System specification: Light source module UV Lamp power: 350 W Maximum UV light source: 350 nm to 450 nm Beam size: 4" x 4" Microscope: Dual CCD zoom microscope Manual moving stage: Dual X, Y, Z Axis Objective spacing: 60-150 Magnification: 80x-1,000x Stage and controller module Exposure timer: 0.1 sec to 999.9 Hours Resolution Utilities requirements: Power supply: 220 VAC, 15 Amps, Single phase with ground.
MIDAS MDA-400M是为精密光刻应用而设计的高级Mask Aligner。它是一款提供高分辨率成像能力和卓越性能的高端设备。该系统采用最新的掩码对准技术和先进的软件控制设计。MIDAS MDA 400 M利用显微镜单元在基板上放置图样。显微镜提供高达4 "x 4"的视场和高达50X的放大倍率。图像在显微镜的帮助下显示在液晶屏上,以便于图样查看和放置。此工具还提供了X-Y平面中≤2µm的对准精度。MDA-400M最突出的特点是成像速度高。资产可以在6分钟平放时产生4 "x 4"的视场。此外,该型号还具有可调光束电流、可调聚焦深度、可调线距等特点。这使用户能够做出最优化的曝光,以实现所需的模式。该设备还设计有一个精密的自动聚焦系统,与显微镜单元结合使用,以实现极其精确的放置。该机还带有改进的真空优化算法,以提高性能和提高分辨率。MDA 400 M还具有"阴影对齐"功能,可防止模式从所需的焦点区域移动。该工具还在掩码数据输入过程中提供了高度的可靠性。此外,该资产还具有易于使用的图形用户界面,可实现平稳高效的操作。总体而言,MIDAS MDA-400M是一款顶级的Mask Aligner机型,提供精确的阵列放置和出色的成像功能。其革命性的设计、先进的特性和高性能使其成为精密光刻应用的理想选择。
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