二手 MIKASA M-2L #9156538 待售

MIKASA M-2L是为光刻应用而设计的高精度抗拒罩对齐器。M-2L能够以高精度对齐抗蚀剂口罩和组件,确保光致抗蚀剂图样能够准确地转移到各种基板上。面罩对准器采用双镜头设备，可大大减少失真并确保所有层的准确性。该光学元件具有1.2倍的光学放大系统,可提高精度。MIKASA M-2L使用一对高精度步进电动机和光学玻璃刻度编码器来精确调整对齐器的位置。这样可以确保所有光掩模和图层都精确对齐,以获得最佳的光刻应用。该M2-L还具有模具居中功能,可进一步确保抵抗罩的紧密对齐。掩码对齐器利用直观的软件界面，为所有层的可重复精确对齐提供了可调参数。该M2-L支持各种薄膜类型和基板，可以轻松校准，以满足每种应用的特定要求。该软件还提供各种可编程设置，允许用户管理对准精度、薄膜厚度、加热和传输速度。液晶屏触摸板允许操作员快速访问设备的多个功能并管理所有重要的机器参数。M-2L还利用故障安全机制,在发生紧急情况时可以关闭该工具。掩码对齐器还具有内置的对齐监视器,该监视器可以提示实时反馈,并在发生任何对齐错误时快速移动掩码。此外,MIKASA M-2L还支持各种标准抗菌口罩,包括8"、12"和16"口罩,以及各种非标准尺寸。该资产还设计用于与各种其它抗蚀剂处理设备（如纺纱机、热板和打印机）接口。M-2L是光刻应用的绝佳选择。该模型能够精确对准抗蚀剂掩模和组件，其直观的用户界面和可调参数使其极易使用。坚固的光学设备和最先进的故障安全机制确保了精确的图样可以快速转移到各种基板上。