二手 MIKASA ML-300LF #9362882 待售
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ID: 9362882
Mask aligner
Mask size: 250 mm x 250 mm (10" x 10")
Substrate size:
Minimum: 200 mm x 200 mm (8" x 8")
Maximum: 300 mm x 300 mm (12" x 12")
T: 0.7 to 1.5 mm.
MIKASA ML-300LF是一种经济高效、精确的掩模对齐器。这台自动化机器用于生产具有高度精确电路和模式的半导体晶片。这台机器具有光刻技术,用于将图样从光掩模传输到晶圆上。ML-300LF利用紫外线使晶圆上的区域暴露于紫外线。然后将辐射聚焦到光掩模上,光掩模包含用于晶圆的电路模式。一旦辐射被聚焦在光掩模上,所需的电路模式就可以转移到晶圆上。MIKASA ML-300LF还包括步进电机,用于在晶圆上移动掩模。ML-300LF具有精确的测量设备,可进行精确的对齐和对齐检查。这样可以确保蒙版在曝光开始之前处于正确的位置,并将所需的图样精确地传递到晶圆上。精密测量系统还包括一个显示测量结果的数字显示屏,以及一个内置的校准单元,便于调整和维护。MIKASA ML-300LF还配备了诸如紫外线屏蔽外壳和紧急停止开关等安全功能。紫外线屏蔽外壳保护操作员免受潜在有害的紫外线辐射,而紧急停止开关允许在紧急情况下立即关闭。总体而言,ML-300LF是一种高效、精确且经济实惠的掩模对齐器,旨在生产高质量的半导体晶片。该机具有易于使用的数字显示屏和内置校准机,以及紫外线屏蔽外壳和紧急停止开关等安全功能,以确保操作员的安全。MIKASA ML-300LF通过其精确的测量工具和精确的对准检查,确保将所需的电路模式精确地传递到晶圆上。
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