二手 NIKON FX-801M2 #293621619 待售

NIKON FX-801M2掩模对准器是为半导体器件的光刻优化而设计的全自动优化设备。广泛用于硅缩编、高速器件生产，以及包括逻辑IC、内存IC、发光器件（LED）、薄膜晶体管（TFT）在内的各种应用的3D集成。FX-801M2口罩对齐器在用户友好的环境中提供了高精度和高效率的设备制造。NIKON FX-801M2掩模对准器由几个腔室和结构组成，包括晶片级、掩模级和曝光室。晶圆和掩模级设有CANSTAGE系列EQ系列级配备单向皮带系统。该装置能够提供高传输力和高精度的晶片和掩模定位。曝光室是使遮罩对准器FX-801M2特殊之处，它由许多组件组成，如冷凝器透镜和帕斯卡光源。这些组件允许高效的平版印刷优化。NIKON FX-801M2掩模对准器的晶片级提供了450 x 350 mm的扩展行程,并具有标记检测机和激光仪表工具。这种资产可以非常精确地定位晶片。掩码级能够自动在两个掩码之间切换,以实现各种对齐类型。它还具有用于掩码检测的专用功能,允许有效对齐包含独特MTF算法的掩码。FX-801M2面罩对齐器还配备了许多功能和设置,用户可以根据自己的需要进行调整。这些包括曝光设置、光线强度、快门速度、预对准精度、图像移位精度和强度偏移。此外，NIKON FX-801M2掩模对准器具有质量评估功能，可自动分析光刻图像以检查运动和质量。总体而言，FX-801M2遮罩对齐器是一个先进的模型，设计，使光刻优化速度快和准确。它具有出色的定位精度，并提供各种适应个人需求的调整设置。此外,它易于操作和用户友好的环境使其成为任何设备生产的绝佳选择。