二手 OAI 200 #9401975 待售
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ID: 9401975
Mask aligner
Mask size: 2" x 2" up to 5" x 5"
Nitrogen consumption: 0.35 m³/h
Does not include vibration isolation table
Substrate size:
Round, 1" Up to 4"
Square, 5 mm x 5 mm up to 4" x 4"
Exposure system, 350 W:
Lamp house
Lamp power
Intensity spectrum of UV400: 350 nm to 450 nm
Print resolution at UV400:
Soft contact: 2 µm
Hard contact: 1 µm
Vacuum contact: <0.8 µm
Gap exposure: >3 µm
Double transmitted illumination: (2) IR Cameras
Microscope manipulator:
Travel range (X, Y, Θ): ±5 mm, ±5 mm, ±5°
Mechanical resolution (X, Y, Θ): 0.1 µm, 0.1 µm, 4x10^-5.
OAI 200是光刻工业中使用的全场掩模对齐器。它是为生产高密度集成电路而设计的高度精确的半自动曝光系统。200使用紫外线照射将电路模式在单个步骤中传输到基板上,并且是制造集成电路时使用的必要工具之一。对齐器带有两个独立的阶段,每个阶段的工作面积为OAI 200 mm x 200 mm,这样可以让较小的磁场曝光,更快的芯片周转时间。对准器的核心是高分辨率成像系统、CCD相机和NOVA-B微处理器的组合。此组合可确保曝光精度和稳定性,对准精度高达1.5 µm。OAI 200可以对湿和干的光刻胶材料,以及感光材料,例如敏感的干膜进行曝光。机器装有电动晶片级,以确保精确的物体定位,并提供可变的对准参数,如场大小和图像曝光。曝光时间也可以针对不同的材料进行调整。200还配备了一系列软件功能,如自动曝光控制、激光切片和对齐优化算法。此外,手动和自动曝光模式允许批量曝光和单次曝光之间的交替,以及调整操作参数。总的来说,OAI 200是一种高度精确和高效的掩码对齐器,适合与一系列其他处理工具集成。由于其高性能的成像和处理系统,它提供精确的曝光时间、高分辨率成像和快速吞吐量。此外,它具有极好的对准精度和较低的拥有成本,使其成为光刻行业的理想工具。
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