二手 OAI 30-079-31 #9026299 待售

OAI 30-079-31是为了光刻和摄影需要而设计的掩模对齐器。它被用于在掩蔽的帮助下加工玻璃、硅、模具、多氯联苯和晶片等多种基材和材料。30-079-31面膜对准器具有较大的透明基板区域和非接触、无破坏性的暴露机制。它配备了几台高科技机械，包括一台先进的离子加速度计，可以提高对准精度，以及一台大型准直仪，可确保均匀的辐照模式。此外,它的可扩展和结构良好的光学系统具有许多技术能力,包括处理尺寸达2000毫米的基板的能力,以及其先进的机器视觉系统允许进行复杂的图样和图像分析。OAI 30-079-31采用直线、圆形或矩阵对齐技术。此外,它的步进电机允许高精度调整,并具有极好的指向精度,在应用图样时可实现最大的灵活性和控制。此外，该设备还具有高度的可配置性，能够编程不同的参数。这些参数包括曝光次数、透镜功率、曝光时间、脉冲重复率、辐照面积和波长。其设计还采用了用户友好软件和直观的图形用户界面（GUI）。30-079-31因其广泛的工艺和配置而设计用于广泛的行业。它已被证明在汽车、光电、航空航天、半导体和印刷电路板（PCB）制造中是有效的。总体而言，OAI 30-079-31掩模对准器促进了各种材料和基板的光刻和摄影过程。它可以实现精确、可靠的对齐,而且还可以通过用户友好的GUI进行高度配置。它是从汽车到光电等众多行业的理想工具。