二手 OAI 400 #9024062 待售
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ID: 9024062
晶圆大小: 6"
Mask aligner, 6"
For up to 6 x 6" squares or wafers
Collimated lens, 10"
Stereozoom optics
Lamp
Power supply: 350 W.
OAI 400是一种光学自动对准设备,设计用于主流光刻工艺中的大晶圆尺度对准。400具有高度精确的四反射分光器和曲面镜的集成设计,能够在0.2微米水平快速、精确地对准。这使得大面积阵列达到OAI 400毫米晶圆比例时,能够实现卓越的自动晶圆级对齐。光学自动对准系统主要由400头、掩模级、晶圆级和控制器组成。OAI 400有一个具有大行程范围的掩模和晶圆级,提供宽广的视野来完成精确和高精度的测量。控制器用于协调设备的所有移动。可以为各种应用程序使用不同的配置设置对齐头。机器有两个独立的CCD相机,同时捕捉晶圆和掩模图像的不同角度。在对准精度方面,400在x-y平面提供令人印象深刻的0.2微米水平。此蒙版对齐器使用五轴运动控制器,在z方向上精确定位。OAI 400还具有高速对齐算法,可以在200毫秒/对齐时自动对齐掩码图像和晶圆图像。其先进的视觉处理算法和功能使其成为大型掩模对齐的理想选择。该工具可以快速准确地处理图像,结果易于解读。此外,400还有一个集成的校准资产和一个严密控制的环境,准确可靠的对准。此校准模型可设置为根据不同的应用要求调整不同的参数。OAI 400与许多DFM进程兼容,如高级对准软件和激光对准。它还设计用于在真空环境中工作。总体而言,400是用于大面积阵列的可靠且经济实惠的掩模对准设备。它易于使用,在0.2微米的水平上提供高度精确的对准,这使得它非常适合在高精度光刻工艺中使用。其集成的校准系统和先进的视觉处理算法允许快速、可靠的读数,易于解读。它还设计用于在真空环境中工作,这使得它适合与激光对准使用。
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