二手 ORIEL 82330 #188526 待售

ORIEL 82330是一种自动掩模对准器，用于领域半导体光刻。其最大曝光波长为325nm，横向分辨率为50nm，聚焦深度为3um，运动速度为2um/sec。精确定位由分辨率为0.5um的XY表控制。扁平基板设计为允许最大厚度为1mm、最大重量为4kg的高达8.5 x 4.5英寸的扁平基板。该压板耐用，采用了重新设计的吸力系统，以减少维护。这样可以将样品牢固地固定在适当的位置,以实现更高精度的对齐。82330还提供了自动对焦系统、专有晶圆对准软件和曝光日志。这样就可以对基板上的图样进行高度精确的对齐,并记录存储卡所使用的聚焦条件和曝光参数。自动对焦系统还能够优化整个视野的焦点，从而获得更高精度的结果。ORIEL 82330配有电子束兼容涂层模块，用于光刻胶的现场涂层。此模块的显着特点包括真空涂层底座、高达100摄氏度的可编辑温度和无雾涂层。这套实验室热处理设备是为脱气、纺纱、烘烤等应用量身定制的。它包括一台0至2000 rpm可调速的十站微调器、一台温度可达400摄氏度的热板、一台两级真空炉和一个原位冷站。82330有大量自动化工具，使半导体光刻更加简单。真空室有一个可调的高度，以适应不同的样品，而对准工具保证精确的对准和精确的背面图桉。涂层模块还确保光刻胶的均匀覆盖，加工工具允许样品快速均匀烘烤。这种对齐器设计方便地与其他实验室设备集成，以满足任何半导体光刻应用的确切需求。