二手 PERKIN ELMER 300 #9174286 待售

PERKIN ELMER 300是一种用于光刻的掩模对齐器-一种用于在基板上创建图样的工艺。它是一种高精度对准工具，用于将特征从光掩模精确地再现到硅晶片或其他基板上。300特别用于半导体和其他相关行业的光刻工艺。PERKIN ELMER 300使用x轴、y轴和theta（θ）轴运行。它可以执行所有三个级别的对齐：一维、二维和三维。X轴和y轴负责横向定位，theta轴负责旋转对齐。由300提供的精密对准保证了光掩模上的图样在半导体晶片上的精确再现。这是通过使用机器的x轴、y轴和theta轴将硅基板相对于光掩模精确对齐而实现的。PERKIN ELMER 300在对准过程中采用了光学视觉识别和自动对准技术。光学视觉识别设备检测基板上的图样，而自动对准系统自动执行对准过程。另外，300装有一个可调的孔径，可以调节光掩模在基板上的暴露剂量。这有助于降低光刻工艺的可变性，提高图样传递的精度。PERKIN ELMER 300还设有一个成像单元，利用紫外线和可见光检查所用材料的基板和光敏度。这种检查有助于在成像之前检测底物的缺陷或任何不规则性。该机还可用于测量基板的厚度和步高，以及创建横截面图像。300是许多实验室用于光刻工艺的强大而高效的工具。它是半导体工业中使用最广泛的掩模对齐器之一，因为它提供了一种快速准确的模式从光掩模转移到基板的方法。PERKIN ELMER 300提供的操作简便和高精度,使其成为从事半导体行业的公司和实验室的理想选择。