二手 PERKIN ELMER 600 series HT #195230 待售
网址复制成功！
单击可缩放
ID: 195230
优质的: 1988
Mask aligner
Main body
Uniformity tester
AFA linear array camera
Scan package
A4 and A5 boards
Relay package
A401, A700 and A703 Boards
1988 vintage.
PERKIN ELMER 600系列HT是一种先进的掩模对准设备,配备高精度步进电机运动控制器,使其能够将精细的掩模精确对准用于半导体制造的基板。该系统具有加热基板支架、用于精确角度定向的theta级和能够进行步进重复和连续运动操作的x-y平移级。该单元针对光刻工艺控制进行了优化,具有先进的曝光控制功能、十倍放大步进器对准的对准反馈以及更好的聚焦精度的轴上成像功能。为了有效地对齐精细的掩码，600系列超线程利用了一种完全可编程的启发式掩码对齐算法，该算法自动优化了基于可变晶圆和掩码配置的曝光。该算法确保掩模的活动层始终正确地聚焦在晶片上，防止晶片堆栈高度差异造成的错位。此外，机器允许曝光之间的"停留"期，这有助于减少掩模-掩模的错误注册和提高过程的可重复性。PERKIN ELMER 600系列HT还具有先进的光学显微镜成像工具,具有轴上成像功能,在聚焦精度方面比离轴系统有显着提高。这使资产能够准确地识别和集中于掩模或基板表面附近各层上的关键对齐标记,从而使该模型成为需要严格聚焦控制的制造工厂的理想选择。600系列HT还配备了用户可选择的晶圆大小,从而使操作员能够在设置过程中轻松选择所需的晶圆大小。这种缩短的设置时间,加上自动曝光优化,可在曝光之间提供快速对齐和焦点重复性。该设备还提供了先进的风力冷却子系统,可提高吞吐量,同时避免通常因水冷而造成的损坏。可以将系统设置为在每一层曝光之前提供冷却,从而使晶片更冷,曝光时间更短。综上所述,PERKIN ELMER 600系列HT是为光刻工艺控制而优化的先进掩模对准装置.这台机器具有用户可编程的启发式对齐算法,可精确对齐精密的掩模,先进的轴上成像工具,可提高聚焦精度,采用空气冷却来减少损坏并提高吞吐量,以及用户可选择的晶圆尺寸,便于设置和快速对齐。
还没有评论