二手QUINTEL(光刻机)待售

QUINTEL生产的掩模对准器以其在光刻工艺中的高品质性能和精确度而闻名。这些基于UV的掩模对齐器与市场上其他可用的对齐器类似，但由于其先进的特性和卓越的工程设计而脱颖而出。QUINTEL的掩模对齐器提供了几个优点。它们允许口罩和基板的精确对齐，从而产生高度详细的模式并提高生产率。对齐器配备了直观的软件和用户友好的界面，使其易于操作，适合初学者和经验丰富的用户。而且，这些对齐器被设计用来处理广泛的基板，允许在各种应用中的多功能性。QUINTEL提供不同的型号，每种型号都符合特定的要求。Q4000模型提供精确的对准和曝光能力，而Q4000红外模型扩大基板的范围，包括红外敏感材料。该Q4000-4IR是一个更高级的版本，它包含四个红外通道，以实现更大的灵活性和先进的光刻工艺。这些示例展示了QUINTEL在其对齐解决方桉方面对不断改进和创新的承诺。总之，QUINTEL的掩模对齐器因其准确性、多功能性和高级特性而备受推崇。它们为用户提供成功的光刻工艺所需的工具和能力，从而在各种应用中取得突出成果。