二手 QUINTEL / NEUTRONIX 401 #9065113 待售

QUINTEL/NEUTRONIX 401是一种面罩对齐器，设计用于印刷电路板（PCB）制造过程中的光刻工艺。它提供了光掩蔽过程中抗蚀层的精确曝光。机器的电子设备围绕中央控制控制台构建，该控制台集成了所有主要组件和控制操作。该机设计为配合3英寸、6英寸和8英寸的对准面罩，为不同的基板提供了一系列的曝光参数。它由三个曝光站建成，其中两个可以用于多轴对准和扫描。机器可以配置为使用两个或四个渐变对齐导轨,具体取决于基板的大小。机器配备了独特的可编程操纵杆，使操作员能够在外部曝光场下快速准确地对齐基板。操纵杆使用光学显微镜设备自动调整基板相对于实况程序面罩的位置。这种能力保证了高质量的重复结果和完美的接触面膜和基板之间。QUINTEL 401还配备了可调节聚焦系统，以确保基板的精确定位。使用高度精确的垂直位移测量单位来测量基板的抗蚀层和遮罩层之间的垂直间距。它设计用于容纳直径8英寸的最大晶圆尺寸。该机采用高档、耐腐蚀材料，在恶劣的工业环境下可承受长时间运行。它包括一个内置的冷却机，自动循环时间不到2分钟。该机由两个带有上、下模具的主板组成，确保口罩和基板之间的精确接触和定位。总体而言，NEUTRONIX 401掩模对准器是实现高精度光刻工艺的可靠高效工具。它为在PCB制造中准确地暴露抗蚀层提供了一个可靠的工具，具有可重复、高质量的结果。它旨在在恶劣的工业环境中提供多年的可靠运行,并得到典型的客户服务和技术支持。