二手 QUINTEL / NEUTRONIX 7000 #293631832 待售

ID: 293631832
晶圆大小: 8"
High resolution mask aligner, 8" Resolution lithography: ASIC VHSIC GAs Silicon Sapphire Thin film fine line.
QUINTEL/NEUTRONIX 7000 Mask Aligner是一种计算机控制的自动对准设备,设计用于在半导体器件生产中实现各种光掩模和晶圆的可靠、精确对准。此高性能系统提供了将光掩码与晶片对齐的全自动过程,为精细对齐和粗糙对齐提供了卓越的性能。该单元配备了两个独立的屏蔽单元,自动对准能够注册精度5um或更低。这样可以确保在暴露前在基板上正确放置口罩。机器利用非常高的真空污染控制环境,在使用高度敏感的光掩模时有助于保持尽可能高的分辨率和吞吐量。工具在对准和曝光过程中使用数字马达控件移动蒙版。这种运动控制确保了光掩模的精确位置和动态成像。它还配备了先进的光学对准资产,利用可调节的远心光学提高分辨率,与SiO2、SiN、聚酰亚胺、玻璃等多种基板的光学特性相匹配。QUINTEL 7000 Mask Aligner是一种专用的Mask Aligner,专门设计用于生产比定制生产光掩模更高产量质量的设备。它还能够有效地处理金属图样、阵列打印等。该模型经过精密设计,可实现光掩模以及各种尺寸、厚度和形状(包括圆形基板)的光滑、可重复和可靠对齐。总体而言,NEUTRONIX 7000 Mask Aligner是一种可靠高效的自动化设备,通过将光掩码精确对准晶片来生产高质量的设备。它为精细和粗糙的对齐任务提供了无与伦比的速度、精度和精度组合。该系统还具有先进的电机控制、光学对准和真空控制功能,确保光掩模与基板的可靠和准确对准。
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