二手 QUINTEL / NEUTRONIX 7000 #293816223 待售
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ID: 293816223
晶圆大小: 4"- 5"
优质的: 2001
Mask aligner, 4"- 5"
Infrared (IR) backside alignment illumination
OPTEK QTL2001 Split-field microscopes
TS PRODUCTS 1200 Precision actuators
Q-500 Lamp house
UV Power supply unit
2001 vintage.
QUINTEL/NEUTRONIX Q7000 Mask Aligner是一种用于制造半导体芯片的高精度光刻工具。它能够产生非常小的结构，其尺寸以纳米为单位测量，非常适合产生复杂的电路模式。QUINTEL Q7000利用一个高度精确的计算机控制的舞台来精确定位包含要打印到基板上的图样的标线。它使用精密光学器件和各种激光光源，以确保图样的印刷最精确。NEUTRONIX Q 7000利用两步过程将图样暴露在晶圆上。首先，产生一个电场，将抗蚀剂材料的离子吸引到晶圆的表面。然后，能量被施加到抗性材料上，以治愈它。电场是由一系列围绕机器曝光头安装的电极所产生。调整这个电位以调节激光的焦点，可以在一纳米范围内精确执行。QUINTEL Q 7000最显着的特点是其光学设备。光学系统包括一个光学钻头，用来塑造和聚焦激光到晶圆上。该单元还包括一个线性扫描仪，用于以圆形或栅格图样移动光束，将图样精确蚀刻到晶圆上。线性扫描仪还能够重复曝光，确保高精度和可重复性。QUINTEL/NEUTRONIX Q 7000除了能够高精度外，还能同时处理多个晶圆。它能够一次处理多达八个晶片，从而实现更快的吞吐量。机器还配备了高精度传感器和反馈系统，以监测每个晶片的方向，以确保精度。为确保安全和符合人体工程学的操作,Q 7000配备了可用于控制该工具的远程控制台。控制台还用于显示有关光刻状态和工作进度的信息。这样可以确保立即检测到任何资产故障或过度暴露。总体而言，NEUTRONIX Q7000 Mask Aligner是一个令人印象深刻和可靠的光刻模型，可以产生一致和准确的结果。其精密光学、多种激光源以及能够同时处理多个晶片，是制造现代半导体器件的绝佳选择。
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