二手 QUINTEL / NEUTRONIX NXQ 4006 #9293868 待售

ID: 9293868
Mask aligner R&D & pilot line production Microelectronics LED / HB LED 3D IC SIOP WLP 2.5D Interposer MEMS Bio MEMS Micro fluidics Compound semi Solar (HCPV) Optoelectronics applications.
QUINTEL/NEUTRONIX NXQ 4006是一款高速、功能齐全的生产面罩对准器,用于半导体制造。它利用最新的掩模技术提供了卓越的对准精度和可重复性。QUINTEL NXQ 4006具有独特的激光设备,旨在减少放置过程中可能发生的蒙版放置错误。该系统具有自动对齐和放置过程,这意味着无需任何手动干预即可设置和操作该系统,从而大大减少了精确对齐掩码所需的时间和工作量。NEUTRONIX NXQ4006的最大对准精度为3微米(3 µm)。这种提高的精度是通过使用激光干涉仪测量光掩模的相对位置来实现的。与其他掩码对齐系统相比,这可以实现高度精确的对齐,并且更容易重复性。该单元还具有最大25 ns的脉冲宽度,使其能够处理最复杂的掩模设计。可选的脉冲加载模块(PLM)可实现高达50 ns的脉冲宽度。此模块用于确保即使在激光发射的能量水平增加的情况下,掩模仍将在晶圆上完全对齐。QUINTEL NXQ4006还提供了在对准过程中快速调整掩模相对于晶圆的位置和旋转的能力。此动态调整可以手动执行,也可以完全自动化,以实现最高的效率。QUINTEL/NEUTRONIX NXQ4006利用六轴级提供精确的定位控制。此阶段允许亚微米定位,并使掩模每次都能在完全相同的位置对齐,确保最大屈服和准确度。该机还配备了双激光工具,允许同时对准两个口罩。最后,NEUTRONIX NXQ 4006具有一个自我诊断资产,它在启动时运行多个测试,以检查是否存在任何可能的错误或未对齐。这样可以确保作业顺利完成,并提供最高质量的对齐方式。总之,NXQ4006是一种高级掩码对齐模型,它结合了最新技术,可提供业界领先的准确性和可重复性。它非常适合大批量生产,能够处理复杂的掩模设计和复杂的对齐任务。
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