二手 QUINTEL / NEUTRONIX Q7000 IR #9063417 待售

ID: 9063417
晶圆大小: 2"- 4"
优质的: 2002
Backside mask aligner, 2"- 4" Wavelength: 365 nm 2002 vintage.
QUINTEL Q7000是一种多用途、高性能的掩模对齐器,用于光刻技术在半导体和光电子等器件生产中的应用。它能够暴露广泛的材料,包括石英、玻璃、金属、陶瓷和晶圆。该Q7000具有16 "x 16"的大型工作领域,允许在光刻过程中对元件进行精确对齐。其先进的光学、数字成像和真空致动气闸设备确保了光罩的均匀曝光和精确定位。使用系统可选的自动对焦和图像缝合功能,可达到高达0.5微米的精度。该单元有内置气体和化学输送机,以确保光刻过程中源气体和化学试剂可控。集成的触摸屏PC提供测量和对准功能,而双主干涉仪工具提供增强的光学器件,以减少曝光时间并提高对准精度。该资产的设计目的是尽量减少污染,并通过其低温(~ 5°C)、低湿度、法拉第笼罩环境和耐颗粒物污染提供最大分辨率。它的双赢自动指令和数据存储参数使您能够轻松地从对齐过程中获得最大的吞吐量。该模型还配备了双波束功能,可同时提供两种不同波长模式的图像,以提高分辨率、精度和对准速度。其优越的空气过滤设备确保只将清洁空气引入系统环境。为了安全起见,Q7000有一个Over-ride锁钥匙和完全集成的预警单元,这样就可以在不影响人员安全的情况下使用。机器还有多个选项可以定制,以满足各种生产过程的要求。QUINTEL/NEUTRONIX Q7000 IR是用于包括半导体、MEMS和光电器件制造以及任何需要精密光刻和掩模对准的过程的理想工具。
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