二手 QUINTEL / NEUTRONIX Ultraline 7000 #200801 待售

QUINTEL/NEUTRONIX Ultraline 7000是光刻工艺中使用的一种精确、自动化的掩模对齐器，其中图样被转移到半导体芯片的表面。QUINTEL Ultraline 7000提供高精度和大幅面成像设备,具有真空室,旨在产生可重复和可靠的结果。NEUTRONIX Ultraline 7000的核心是它的晶片级，一种精密的压电元件，以极高的精度移动基板。晶圆级直径5英寸，设计用于支撑广泛的基板，直径最大8英寸，最大重量600磅，系统提供3 µm ±的定位精度和2 µm ±的可重复性。Ultraline 7000还包括光刻头，具有267 nm或351 nm的紫外线和0°或90°的辐照角度等能源。QUINTEL/NEUTRONIX Ultraline 7000还与包括数码相机、显微镜物镜和改善图像对比度的保护滤镜在内的先进光学单元集成在一起。该机具有使用滤波器的能力，可以阻挡带外辐射，以尽量减少表面污染。QUINTEL Ultraline 7000便于使用免维护的插入式光掩模进行曝光控制,这是一种石英板,其石英圆柱体装有重金属,其精确设计用于传输（或阻止）辐射。它还使用真空工具，以确保晶圆腔中可重复的均匀真空和集成的自动喷嘴清洗资产，以便更可靠的曝光。NEUTRONIX Ultraline 7000不需要任何外部供气模型，电气设备独立于任何电气连接运行，因此该过程被快速设置。该系统还包括一个聚合物机器人手臂，带有夹持臂，用于晶圆和口罩的装卸。总体而言,Ultraline 7000是一种有效的自动化掩模对齐器,能够产生精确一致的光刻结果。通过利用其先进的功能，机器可以帮助创建高质量的设备，从而提高半导体产品的效率和性能。