二手 QUINTEL / NEUTRONIX Ultraline 7000 #293618166 待售

QUINTEL/NEUTRONIX Ultraline 7000 Mask Aligner是一种高效、精确的微电子制造设备,用于创建精确、可重复的芯片设计。它用于对齐特定图样并将其暴露于聚焦光源（如激光）瞄准的晶片上。它旨在在硅和复合半导体加工中执行先进的光刻工艺，从而能够快速准确地生产大规模集成（LSI）电路设计。QUINTEL Ultraline 7000的基本操作包括用蒙版曝光预制晶片，意即携带所需图样的图像，并与光刻过程的精确坐标对齐。掩模对齐器包括一个安装激光及其光学器件的框架,以及在曝光过程中移动晶片的X-Y级组件。晶圆的精细定位对于精确的光刻至关重要，NEUTRONIX Ultraline 7000在200微米/秒的速度下提供了两个微米的X-Y精度。它的模块化允许多种集成选项,并且与大多数QUINTEL产品一样,它的控制系统可以轻松快速地联网到其他工具,从而创建一个更加自动化和高效的流程。Ultraline 7000可以装载多种镜头类型，如0.5微米透镜、1.0微米透镜、1.5微米和2.0微米透镜，使其能有效覆盖广泛的应用。此外,QUINTEL/NEUTRONIX Ultraline 7000 Mask Aligner还配备了各种安全功能,如气体保护和晶圆断裂或电源故障时自动关闭。它还具有自动曝光和光束感知系统，以检测和避免障碍。NEUTRONIX为任何技术问题或需要提供实地支持和培训。其开放式平台允许进一步定制并集成到其他工艺中，确保QUINTEL Ultraline 7000掩模对准器是先进微电子制造工艺的有效可靠选择。