二手 RORZE RA410-812-101-1 #9384821 待售

RORZE RA410-812-101-1是一种用于在半导体晶片上蚀刻精确图样和结构的掩模对齐器。它使用光，通常是紫外线（UV）光，在一个称为光刻的过程中将图样从光掩模转移到晶圆上。RA410-812-101-1中的光束由紫外线辐射组成，通常波长在365至405纳米之间。通常,掩模对齐器包含两个晶片级。首先是传输阶段，通过定位编码器的方式精确移动掩码和晶片。二是曝光阶段，由光源、遮罩架、光准直设备和光学投影系统组成。遮罩架持有光掩模，这是一个二色玻璃含有蚀刻在铬图案。光学投影单元使用透镜和反射镜的组合，将掩模图桉投影到晶圆表面上。RORZE RA410-812-101-1还配备了带有触摸屏LCD的控制单元，提供实时参数信息，如热漂移、舞台对准、光束对准等。这个控制单元还包括一个测量站。该工作站包含精确的测量编码器，用于检测和补偿运动过程中掩模和晶片的任何失真。RA410-812-101-1还包含一个精确的温度控制机。这一点很重要，因为它有助于确保晶片在暴露过程中不会发生热膨胀，因为这会导致图样变形并损坏晶片。温度控制工具可以将晶圆的温度保持在0.2°C ±以内。该RA410-812-101-1can减少了曝光时间,最小化了装配时间,并显示了具有高通量、重复性和准确性的掩模公差内的边缘变形、遮蔽和临界尺寸。总体而言，RORZE RA410-812-101-1掩模对准器是一种可靠、精确的半导体晶片蚀刻图样的机器。它的设计保证了掩模和晶片的精确移动，图桉的精确投影，温度保持恒定。最终，这种掩模对齐器提供了制造先进半导体器件所需的精度。