二手 SHINUMST CA-6AM #293602547 待售

SHINUMST CA-6AM是一种用于制造半导体集成电路的光刻工艺的掩模对齐器。它旨在让制造商创造微型、高精度的图桉。对齐器的工作原理是通过遮罩投射光，遮罩用于创建传递到晶圆或光致抗蚀剂上的图样。CA-6AM使用先进的光学设备,使用户能够对图样进行极其精确的调整,并更容易用均匀的光刻胶层覆盖掩模。该机既可容纳正负光刻胶，也可用于制作各种分辨率范围的图桉。SHINUMST CA-6AM具有自动对齐系统,该系统可自动找到遮罩和基板的最佳对齐方式,从而确保图样被精确地转移到基板上。对齐单元还简化了设置时间，允许用户从一个对齐快速移动到另一个对齐。机器还包括一个机器视觉工具，使用激光和照相机来监控每个对准的准确性。CA-6AM具有一系列的特点，使其适合在高速下产生复杂的模式。它具有80千瓦（kW）氦激光器和高速扫描资产，可产生最小线宽0.2 μ m、最小线距0.3 μ m的图样。SHINUMST CA-6AM还有一个高分辨率的直视摄像头，它向操作员提供反馈，使调整对准更加容易。相机还具有屏幕识别和测量功能。CA-6AM使用户能够轻松编程所需的曝光时间和设置,从而确保在多次曝光时获得一致的结果。此外,该模型还可以远程控制曝光时间和激光电源,使用户能够在长时间运行中进行快速、准确的校正。SHINUMST CA-6AM还与各种光掩码兼容，允许用户使用自己的自定义掩码。总体而言，CA-6AM是一种高精度的掩模对齐器，能够在一系列不同的基板上创建极其精确的图样。它具有先进的光学设备和自动对准系统，确保精确的模式传输。它还有一个80 kW的氦激光器和一个高速扫描装置，能够产生最小线宽为0.2 μ m的图样。此外,SHINUMST CA-6AM可以向操作员提供反馈,并且与各种光掩码兼容。