二手 SVG / PERKIN ELMER / ASML 240 #33408 待售

SVG/PERKIN ELMER/ASML 240 Mask Aligner是为生产高品质半导体产品而设计的高速设备。它提供了先进的阵列、对齐精度和对齐稳定性,同时大大节省了成本。该系统旨在将电子束敏感面罩以极高的精度对准任何尺寸的基板。SVG 240单元基于集成的模块化设计,使其易于使用,并且在维护成本方面具有成本效益。它允许对制造工艺进行快速、高效和精确的光刻。此模型包括高级功能,例如：组合光刻的两个独立工作阶段、改进的位置精度和基于点的多次对齐。ASML 240的运动阶段具有精密加工元件和闭环控制器,可确保舞台的精确和平滑运动。步进电机提供高度精确的模式传递，可重复性为2µm，范围为2-20µm。运动机还支持角度对准高速旋转台和高精度旋转编码器，以保证精度。口罩支架的设计提供了可重复、可靠的对准，稳态精度优于0.5µm。口罩支架接受完整的口罩选择，包括4"至6"、8"至12"和最大24"大小。它还支持高度工程化的蒙版,需要多级阵列、定位和对齐。该工具还包括具有几个预设参数的高级自动对齐特征,例如：模式细化、基于规则的特征识别、迭加计量和对齐优化。软件套件还允许用户从一系列光刻工具中进行选择,这些工具包括：图像增强、光学接近校正（OPC）和标线放置。总体而言,PERKIN ELMER 240 Mask Aligner是一种高效且经济实惠的资产,可用于制造半导体。其模块化设计和集成特性使其成为先进光刻应用的理想选择。