二手 SVG / PERKIN ELMER / ASML 340HT #65071 待售

SVG/PERKIN ELMER/ASML 340HT Mask Aligner是一种通用的先进的半导体制造掩蔽和光刻设备。它结合了必要的曝光精度和坚固可靠的硬件设计，确保了光刻加工的高产率。该系统利用高质量的栅极矩阵及其独特的薄膜曝光工艺，提供从8nm到0.5um曝光的临界光刻精度。该单元包括一个功能齐全的控制器,能够通过单个用户界面控制多个工具。这样可以实现更高效的生产和更准确的结果。该机独特的曝光能力包括深紫外线（DUV）光刻、先进的电子束曝光，以及利用其先进的曝光控制器进行先进的曝光控制。这确保了在需要精确分辨率的阵列和特征方面的更高精度。由于其统一的照明技术,该工具还具有更高的曝光精度。这有助于各种光刻工艺,如临界覆盖、临界间隔、临界配准和临界线边缘粗糙度,以及接触孔和模具连接光刻等特殊应用。该资产还设计得极其可靠，并融合了无垂直运动警报、低速运动警报和动态聚焦设置等一系列功能。此外,该模型还包括一个集成的精密步进器,允许以最少的运行量对大区域进行精确步进和阵列化。此外，SVG 340HT Mask Aligner是为了灵活性而设计的，并且兼容于各种不同的基材和抵抗材料。该设备还为重复性对准过程提供自动化的工艺排序，并可配置到各种晶圆处理系统，用于处理中小型基板批次。此外,ASML 340HT Mask Aligner还包括一系列高度复杂的CR和DR选项,这些选项提供了自动化、改进的数据处理和过程控制方面的最新功能。该系统还具有一整套诊断程序,包括不下载的测试,以及完整的扫描和曝光记录。总体而言,PERKIN ELMER 340HT Mask Aligner是用于半导体生产的最先进、精密且用途广泛的设备。结合精确的分辨率和精确的曝光精度,以及卓越的可靠性组件,340HT是吞吐量和产量优化的理想选择。