二手 SVG / PERKIN ELMER / ASML 551 HT #9165929 待售

SVG/PERKIN ELMER/ASML 551 HT Mask Aligner是一种最先进的自动化晶片级光刻设备,设计用于晶片上电路的阵列和对准。它提供精确、精确的曝光功能,允许使用精确度低至100 nm的功能。它比可比的光刻系统体积更小，成本更低，是大批量芯片生产的绝佳选择。系统使用干涉映射来精确地在基板上对齐掩模图样,并且可以容纳直径不超过6英寸的基板。它由一个光源、一个透镜、一个拿着口罩的狭缝转子和一个对准检测器组成。Mask Aligner能够成像晶片,其最小线条/空间模式为0.5um,最小面积为0.2um x 0.2um,曝光重复精度为0.1um。该机借助高精度电机运行，提供精确、精确的运动控制。它由高分辨率线性编码器组成，提供了一种精确测量光刻中使用的光学计算的手段。该单元还可以容纳100毫米和150毫米晶圆。它配备了一个精细的调整机制，这使得容易对准面罩图样与基板。机器配备了自动化的模型和关键帧编程功能，最多可以存储20个密钥，使用户能够快速准确地回忆模式。SVG 551 HT Mask Aligner包含许多高级控制功能,包括3.5英寸液晶显示屏,用户可以轻松调整对齐参数。此外,该工具还具有内置的自动校准功能,无需在每次曝光前进行手动校正。此外，该资产还包括一个全面的软件包，其中包括一个用户友好的图形用户界面。这使用户能够快速直观地对模型进行必要的调整。该软件还可用于存储可编程参数，消除为后续运行手动重新编程掩码，并允许快速检索存储的模式。总体而言,ASML 551 HT Mask Aligner是满足各种光刻需求的理想选择。它为大容量芯片生产提供了精确、可重复的曝光功能,以及各种高级功能,如自动对准和校准。