二手 SVG / PERKIN ELMER / ASML 551 HT #9377427 待售

SVG/PERKIN ELMER/ASML 551 HT掩模对准器是一种用于半导体和纳米技术制造工艺的工具。它利用光刻和精密对准的组合，允许在基板上蚀刻电路和特征。该机器能够提供小于1 µm的对准精度,并且可以处理直径从5"到8"的基板尺寸以及最大12"的芯片尺寸。掩模对齐器的核心是由两个基本子系统组成：各阶段，它们负责准确定位基板和相互相对的掩模；以及光源，它负责将光致抗蚀剂暴露在基板上。这些阶段由两个连接到两个旋转阶段的X-Y线性平移阶段（或"表"）组成。两个旋转级在XY平面中旋转,精度为0.007度。X-Y线性级在三个维度上移动基板和掩模，可重复精度优于1 µm。此外，各级还有一个晶圆提升系统，其设计目的是在曝光过程中保持基板的位置。光源是一种光掩模投影系统，能够以高达245nm的紫外线（UV-C）照射光抗蚀剂。光源具有可编程的UV-C强度和曝光时间，允许对曝光过程进行精细控制。SVG 551 HT是一种通用的设备制造工具。凭借其高度精确的舞台和强大的光源，面罩对齐器能够创造功能尺寸降低到几微米。它也可用于创建标准的光刻掩码，以及半导体器件，如数字逻辑电路、内存芯片和纳米级晶体管。