二手 SVG / PERKIN ELMER / ASML 554 HT #293645518 待售

ID: 293645518
Mask aligner.
SVG/PERKIN ELMER/ASML 554 HT掩模对准器是一种用于光刻应用的设备,例如在半导体器件的生产中。它用于将模式从掩模转移到基板上。该系统具有较高的吞吐量和精度,适合生产具有高模式重复性和精度的先进半导体器件。该单元的特点是投影机包括一个5倍还原投影透镜,石英灯和平场冷凝透镜。石英灯保证了最佳照明和高通量,而投影透镜提供了高分辨率的图像,精确地显示了精细的细节。投影镜头的N.A.为0.55,数值光圈高达0.45。照明元件还包括单色激光源和一组衍射光学元件,以提高分辨率和对比度。该工具还有一个步进级,射程为0.7至6.0 µm。0.3 µm+/-0.1 µm的绝对级精度允许有图桉的口罩和基板的精确对准。为了确保重复结果,步进器进行温度控制和温度调节.舞台可以在手动或自动化环境中操作。除步进器外,对齐器资产还包括一个X-Y级,其扫描范围可达4毫米。这用于在同一对齐模型中覆盖多个基板。步进器和X-Y级都配备了编码器来测量它们的位置,允许高度精确和可重复的基板对齐。该设备还有一个自动蒙版装载机,用于送入有图桉或镀铬的蒙版,或接触对准蒙版。掩模平铺器通过将多个掩模并排放置在同一基板上来实现更高的吞吐量。这可以很快完成,因为倾斜器有一个2.4-4度的舞台,可以精确定位多个口罩。SVG 554 HT掩模对准器是一种通用、先进的光刻应用系统。该单元具有高分辨率投影光学器件,精确步进和X-Y级,以及自动蒙版装载机。结合高吞吐量,这台机器非常适合生产高质量的半导体器件。
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