二手 SVG / PERKIN ELMER / ASML 641 HT #9194296 待售

SVG / PERKIN ELMER / ASML 641 HT
ID: 9194296
晶圆大小: 5"
Mask aligner, 5".
SVG/PERKIN ELMER/ASML 641 HT是一种高通量扫描电子束曝光步进器,常用于光刻和掩模对准器操作。这种自动化设备采用了一种步骤和重复算法,在同一基板上重复曝光时,可以精确对齐掩模上的图桉。SVG 641 HT具有由x-y线性级、x-轴旋转级和光束偏转器组成的高分辨率模式发生器。X-y线性级由高速伺服电动机驱动,除了精确的模式对准外,还便于高吞吐量。X轴旋转级用于修改x-y平面中的阵列方向,允许容纳各种对齐的目标。束偏转器设计为以电子方式调整放置在基板上的电子束焦点,允许更精确的图样定位和更高解析度的影像。ASML 641 HT配备了精确的激光干涉仪系统,能够在基板上实现精确的图样对准。该单元由三束光束组成,使掩模对准器能够测量激光束点与扫描电子束曝光面之间的相对距离,以确定图样在基板上的精确位置。PERKIN ELMER 641 HT还具有高精度的扫描光学器件,能够对基板上的图样进行精确和可重复的对准。这台机器使用两台检流计扫描仪,配置用于在两个垂直轴上扫描电子束。这些扫描仪在整个曲面上以同步运动运行,从而可以精确控制工具收集的数据。此外,641 HT还包括一个板载控制器,可以自动操作资产。该控制器允许电子控制各种模型参数,如光束偏转位置、曝光时间、电压和电流等。控制器还允许对设备进行模式编程和实时控制,可用于对实验室不断变化的条件做出快速反应。总之,SVG/PERKIN ELMER/ASML 641 HT是一种用于光刻和掩模对准操作的高通量扫描电子束曝光步进器。这种自动化系统采用了一种步骤和重复算法,允许在同一基板上重复曝光时对掩模上的图桉进行精确对齐。它集成了精密激光干涉仪单元、高精度扫描光学器件以及能够实现机器自动化操作的车载控制器等多种功能。SVG 641 HT是光刻和掩模校准工作的绝佳选择。
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