二手 SVG / PERKIN ELMER / ASML 641 HT #9198310 待售

SVG/PERKIN ELMER/ASML 641 HT是为了製造高精度光掩模而设计的掩模对齐器。作为现有SVG 641系列曝光系统的扩展开发，SVG 641 HT专为苛刻的电子制造服务（EMS）、光子和半导体精密掩模制作应用而设计。ASML 641 HT掩模对齐器具有集成的测试仪、对齐前和对齐后的增量矢量测量功能、转盘校准、自动对齐对齐表和500瓦激光照明器,在放置和对齐尺寸不超过6英寸的光掩模方面具有极高的精度。作为综合精密口罩制作包的一部分，641的HT版配备了可靠准确的曝光设备。掩模对准器允许对曝光参数（如剂量、速度和焦点）进行精细调整,并允许对映射或晶片进行半自动和/或手动编程,使其与光掩模对准,以制造复杂的多维精密光掩模。HT版本的ASML 641系列采用高度可靠、高效和可重复的对齐系统,将精确掩码制作提升到新的水平。该设备包括先进的技术和功能,可实现更高的对准精度,包括一个线性电动机驱动器,该驱动器能够快速移动掩码级± 30毫秒。这些电机还允许机器在任何非线性运动后自动重新校准自身。该工具具有九轴、平面内预对准和后对准反馈回路以及XY现场监控资产,可最大程度地减少振动并减少热漂移,确保始终保持对准的准确性。HT模型还包括完全集成的标线和磁带处理功能,用于标线和晶圆对齐。该模型能够容纳使用边缘配准最多四个不同网格的多网格标线,并且能够容纳用于制造最先进的光掩码的最复杂的标线。此外，该设备还能够处理高容量的磁带进纸器，以适应面膜与晶圆的匹配。PERKIN ELMER 641 HT是一款用途广泛、先进、用户友好且极其精确的掩模对准器,旨在满足最苛刻的光掩模制造需求。凭借其先进的技术和特点，HT模型能够以非常短的周转时间生产出最高精度的光掩模，以满足EMS、光子学和半导体行业的需求。