二手 SVG / PERKIN ELMER / ASML 641 #9105485 待售

SVG/PERKIN ELMER/ASML 641 Mask Aligner是一款高度先进的光学分析设备，设计用于生产精确的亚微米和纳米级集成电路。该设备结合了先进的光学成像、图样放置和对准，提供了卓越的分辨率和速度。该系统具有5轴、6 x 2英寸对齐阶段,用于在掩模和基板上精确放置图桉。它具有5英寸（127毫米）的光路,可获得最大的分辨率和焦点,专有的对齐照明单元可产生平场照明,向下的光照射到照明器,以及用于无与伦比的细节和焦点的轴上成像光学器件。这台机器还提供了生产单个或批处理模式的灵活性，其精度可低至0.1微米，最高可达1微米。SVG 641 Mask Aligner提供高级成像能力。它具有高性能成像阶段,可为所有阵列放置提供清晰详细的图像。还包括优化成像和最佳模式对准工具,用于精确的图像捕获和对准。此资产的设计目的是通过掩码产生尽可能高的分辨率和准确性。该型号配备了一系列功能,以确保最高的生产率和准确性。它有一个最大测量精度的现场校准设备，一个智能视觉引导系统，以及一个自动优化单元参数的专利设计优化器。该机器还具有用户友好的图形用户界面，能够连接到网络或计算机进行远程控制和监控。ASML 641 Mask Aligner是集成电路设计和制造的理想工具。它具有超高分辨率成像和阵列放置功能,是开发高级精密电路的宝贵工具。它提供了比标准光刻系统更大的灵活性和准确性，同时确保了最高水平的效率和准确性。