二手 SVG / PERKIN ELMER / ASML 651HT #9259118 待售

SVG/PERKIN ELMER/ASML 651HT Mask Aligner是一种先进的快速原型制作工具,用于制作和装配光学对齐光刻。掩模对准器是一种扫描型直写工具，用于生产级半导体和相关行业，用于修改薄膜器件如光电阻器、薄膜晶体管（TFT）阵列和电容器。SVG 651HT专为Submicron处理而设计,可精确执行平面化/几何对齐以及对齐漂移和扭曲补偿。ASML 651 HT Mask Aligner由四大子系统组成；光学设备、扫描系统、对准单元和投影/光刻机。光学工具包括一个精美的变焦物镜（聚焦从0.150毫米到0.34mm）和一组四个用于高精度扫描和投影的电动镜。扫描资产基于压电步进镜以及用于三维对齐的旋转镜,并以高达90°的偏转角度提供所需大小的图像字段。对准模型采用了高精度的自动定心级和手动调节的步进电机，实现了快速、精确的对准。SVG/PERKIN ELMER/ASML 651 HT的投影/光刻设备由700nm至830nm照明设计的有源照明器和保持光强度均匀性的衰减器/平滑器组成。微光刻系统还能进行角度对齐，场角高达350微米。它体积小巧,仅需80 x 80厘米的空间。ASML 651HT易于安装,可与各种流程环境连接以实现自动化。该工具带有自己的内置PC,并运行基于Windows的软件来控制投影仪/掩模对齐器。其全面的图形用户界面（GUI）使工具的设置和操作变得微风。651HT配备了多场八边形扫描、回绘长度、快速对准例程、工艺优化、光束位置自动校正等多种先进功能。总之，SVG 651 HT蒙版对齐器具有精确、精确的性能，是制版和装配光学对齐光刻的典范工具。它具有先进的特点，能够方便和方便用户的操作，适用于研究和生产水平的半导体。