二手 SVG / PERKIN ELMER / ASML 651HT #9399540 待售

SVG / PERKIN ELMER / ASML 651HT
ID: 9399540
Mask aligner HG Lamp uniformity high: >13% Scan speed low: 0.34"/s Frequently unit: Arm stuck Reworked unit: Assembly gear unit Motor and gear assembly Vacuum cups Air gauge: Auto focus calibration Offset evaluation: Nozzle OPC 121: 480 µm Wafer screws adjustment: 89 cm, -34cm, 163cm OPC 122: -2.1 µm Focus coarse adjustment: OPC 11: -9.5 µm 0.7µm/cm -0.1µm/cm Open slit unit: 4.9% (13%) Scan speed: 0.55”/s - 1.045"/s Input elevator (Height and flag adjustment) PCB Labelled: Right and left hand card cage Parameter: OPC 240: -4PPM, 2304: 0 -0.25, -0.1 µm.
SVG/PERKIN ELMER/ASML 651HT是专为非常高通量晶圆步进器应用而设计的高性能掩码对齐器。它具有基于奔腾处理器的嵌入式微控制器,以及高速集成内存控制器和高速串行通信端口。SVG 651HT具有多种功能,包括高速光学对准机制,可确保口罩和基板的精确对准。该机构由安装在两个独立阶段的两个定位器组成,第一个用于快速成像,第二个用于微调。ASML 651 HT的微调光学器件有助于显着减少曝光时间。651HT集成的两级对准还包括一个独特的显微镜成像平台,允许面膜和基板的多种配置。显微镜装有防静电保护器,防止粒子附着在敏感的静电卡盘上,成像设备灵敏程度足以检测到晶圆上的单个微米特征。651 HT具有高性能的自动对焦功能,使其能够连续检测、测量晶片并将其重新对焦至1微米以内。该系统还设有集成的高精度对准平台,使用户无需耗时的重新校准即可快速调整大量复杂的曝光。PERKIN ELMER 651 HT的灵活软件平台也允许用户探索各种预定义或自定义的用户定义参数。强大的功能包括移动曝光区域以增强光刻控制和优化设备生产周期。整个单元可以通过基于文本的命令界面轻松操作。SVG 651 HT设计用于低附着暴露过程,其密封外壳有助于防止光学器件的污染。此外,它坚固的车身由高级耐温材料构成,也具有抗冲击能力,能够承受高振动和ESD冲击。SVG/PERKIN ELMER/ASML 651 HT是一种可靠高效的晶圆步进机,即使在高速和通路下也能执行困难而精确的光刻工艺。高度先进的设计使ASML 651HT能够在各种复杂的曝光过程中始终提供高性能和准确性,使其成为高速光刻生产的绝佳工具。
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