二手 SVG / PERKIN ELMER / ASML 751 HT #293615179 待售

SVG/PERKIN ELMER/ASML 751 HT是一种用于覆盖层和接触层光刻的掩模对齐器。该机利用超高真空环境和曝光光学器件实现亚微米精度，是设备可以再现的最小特征尺寸。接触曝光时间可从2毫秒调整到200毫秒,而覆盖层曝光时间可从5毫秒调整到500毫秒。此外,系统还具有自动聚焦、柱头和自动曝光,以确保光刻过程中的最佳对准、曝光和聚焦。SVG 751 HT对准器具有覆盖层和接触层的双源单元。它有一个300毫米卡盘，有盖子和接触面罩空白支架的插槽，并配有一个300毫米舱口支架，能够处理大量的基板。晶圆与精确真空接触。这样可以防止晶片移动,并在曝光时确保精确对准。该机配备石英基投影光学器件，保持了高通量、低噪声、低热陈旧。除石英光学器件外，该机还拥有一台速度可调的框架快门机，为用户提供光刻过程中曝光时间和功率的控制。磁场展平透镜进一步有助于在曝光过程中保持平坦的磁场。ASML 751 HT具有自动化的过程控制工具，利用电子图像处理和机器人控制方面的进步。这允许精确的对准和可重复的曝光结果。它还为用户提供了操作上的灵活性,使其能够运行不同的暴露过程,而无需手动观察或校正。该机还拥有先进的基板处理资产，使用负载锁、晶圆笼和基底减振，以确保洁净室环境，有助于防止颗粒污染。可选的串联粒子监控器功能允许用户监控和控制基板污染。通过一系列警报和其他读数监测PERKIN ELMER 751 HT的运行状况。这些警报允许立即向用户通知可能影响光刻工艺准确性或完整性的任何更改或问题。这使用户能够快速解决任何问题,并最大限度地减少任何潜在的损害。751 HT是一种高度精确、经济高效且可靠的掩模对齐器,专门设计用于半导体行业。它使用户能够以最高的精度和精确度制作平版印刷,同时提供一个安全和受控的工作环境,并提供最低限度的维护。