二手 SVG / PERKIN ELMER / ASML PE661 / PE700 #9186519 待售

SVG/PERKIN ELMER/ASML PE661/ PE700 Mask Aligner是专为生产光掩模和半导体晶片而设计的、最先进的步进/对准设备。该仪器有两个光学系统，一个用于对准晶圆上的光掩模，另一个用于生成光掩模可以看到的衍射图样。光学系统由一个远心双重物镜、一个二向色光束分离器和两个角镜组件组成。SVG PE661/ PE700具有广泛的视野（FOV）和高度的对齐操作准确性。800 × 800 μ m FOV提供5.4 μ m的精确实时分辨率,而1350 × 1400 μ m FOV提供6.6 μ m的分辨率。仪器以无与伦比的精度执行模式迭加测量、工艺开发和晶圆检测操作。ASML PE661/ PE700 Mask Aligner专为高产半导体晶片而设计。它具有先进的光学器件、模模配准单元、对准级和正在申请专利的多轴运动控制硬件。该机可针对大面积图桉优化缝线，在关键对齐应用上提供卓越性能。它还为瓷砖提供缝合选项,从而提供更高的精度。PERKIN ELMER PE661/ PE700提供了一系列自动晶片处理功能,包括基板夹具机、晶片处理单元、晶片预对准夹具和光刻胶检测工具。它还配备了专门的晶圆对准和放置优化系统，能够更有效地自动收集和分析数据。此外,PE661/ PE700还包括高级校准和调整功能,以确保在各种工艺条件下的最高精度。SVG/PERKIN ELMER/ASML PE661/ PE700还具有几个独特的高级安全功能。该仪器设计有减振机构和冷却系统，以防止腔室和光学器件过热和受到污染。该机还利用计算机控制的传输动力学来防止不希望的瞬态运动。总体而言,SVG PE661/ PE700 Mask Aligner是一种精密仪器,旨在在高产量的生产环境中提供高精度对准晶片上的光掩模。其自动化晶圆处理元件阵列，先进的光学和分层的安全特性，提高其准确性和可靠性，以确保一致的，高质量的结果。