二手 SVG / PERKIN ELMER / ASML PE761 #9113601 待售

SVG/PERKIN ELMER/ASML PE761是一种高精度掩蔽器工具，用于在纳米尺度上对半导体晶片和器件层进行图样绘制。掩模对齐器的目标光刻过程在创建半导体器件。对于每一个光刻过程，都需要一个"掩模"，也称为光掩模。它包含打印到晶片上的图样。设备层必须放置在精确的位置,然后才能将其暴露和阵列化。SVG PE761的一个关键特点是其高的位置精度和光学精度，这是精确电路所必需的。其6轴高度集成的自动对准系统提供了高度的灵活性和准确性。它提供了一个可处理4"或6"晶片大小、双晶片对准和各种标线尺寸的电动级。ASML PE761具有光场和暗场能力的光学图像系统，使其能够促进不同类型的检查，包括对非常小的结构的检查。PERKIN ELMER PE761还具有广泛的自动化和过程控制功能。它能够实现对齐、光刻和曝光过程的自动化,并结合了自动SPC（统计过程控制）功能,提供实时过程监控功能。除此以外,PE761还提供了一系列生产力特性,包括高定位分辨率、快速晶圆传输以及高可重复性和可靠性。除此之外，这台机器还能够处理各种不同的过程以及多种意图。其中包括已知良好的模版印刷和CMP（化学机械抛光）工艺控制。SVFSVG/PERKIN ELMER/ASML PE761是一种自动化、精确且高度集成的掩码对齐工具。其尖端的设计和性能使其成为在纳米尺度上对半导体晶片或器件层进行阵列设计的理想选择。其6轴对准系统、适当的晶片对准以及自动化的过程控制和监控功能的结合，使SVG PE761成为光刻和过程控制应用中极为有用的工具。