二手 TAKATORI NMC 1 #9132183 待售

TAKATORI NMC 1是一种面罩对齐器，设计用于将微制造的面罩精确对齐到基板上。它用于在Si晶片等基板上绘制高分辨率特征的图样,能够同时定位和对准多达六个独立的掩模,精度和精度可降至亚微米级。NMC 1利用先进的光学成像和图像处理技术将掩模对准和定位到基板上。成像设备由一个分束器、镜头、CCD相机、可移动反射镜等几个光学元件组成。分束器将来自对齐设备的光分成两条路径。第一个路径用于照亮蒙版上的参考图样,而第二个路径用于捕获基板上相同图样的图像。TAKATORI NMC 1能够通过分析捕获图像的相对位置来检测小的对齐差异。然后,它会自动调整镜子和掩模支架的运动,以便将掩模精确对齐到基板上。NMC 1的对准精度约为50纳米。为了保持这一精度水平，系统配备了环境控制单元，以确保运行过程中温度、湿度和压力水平保持稳定。TAKATORI NMC 1还被设计为与光源、运动控制器、真空卡盘等其他设备配合使用。光源用来照亮遮罩上的参考图桉，而运动控制器和真空卡盘则可以用来固定和移动遮罩和基板，以确保精确对准。除了将口罩精确定位到基板上之外，NMC 1还提供了一些额外的功能，如口罩配准和测量口罩图样失真的能力。它还具有手动调整对齐参数的手动模式。总体而言,TAKATORI NMC 1是一款先进的掩码对准器,可提供精确度和准确度,最高可达亚微米级。它被设计为与光源、运动控制器、真空卡盘等其他设备结合使用，以实现微加工面罩在基板上的精确对准。环境控制机可确保操作过程中温度、湿度和压力水平保持稳定,而掩模配准和模式失真测量等附加功能使用户能够进一步优化结果。