二手 TAMARACK 191 #9237954 待售
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TAMARACK 191是用于处理和生产集成电路的高级掩模对准器，其中具有布线、晶体管等图样的光掩模层被转移到晶圆上。191对准器为其面膜均匀性使用曝光设备。该系统由一个157 nm氟化物准分子激光光源、一个成像单元、一个旋转级和一台对准机组成。曝光工具包括一个157 nm波长氟化铵准分子激光器，用于产生紫外线，用于将光掩模暴露于晶圆。该激光器是一种风冷冷腔激光器，具有6kW的脉冲功率输出，旨在在整个晶圆上产生均匀的光强度。该成像资产包括一个数值孔径为0.50的双多模具透镜和一个自相关算法，用于比较光掩模上的图样和晶圆上的底层图样。中等大小的旋转级允许晶圆旋转360度，用于将光掩模对准成型晶圆上的目标图样。该级具有高度精确的运动能力，可以在x轴和y轴中移动，具有精确和可重复性。对齐模型负责对齐或放置光掩模图样与底层晶圆图样。它具有先进的彷射变换算法，有助于将每个光掩层精确地放置在晶圆上。TAMARACK 191是一款高效、精确的掩模对准器，非常适合大批量生产集成电路。它具有较高的激光强度、成像精度和对准精度，适用于涉及大量集成电路的复杂制造工艺。
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